Front-end wafer processing
CVD
chemical vapor deposition
DraftVersion 0.1.1Updated 2026-10-09
- Definition(Written in Korean)
- 기체 원료를 반응시켜 생긴 물질을 웨이퍼 표면에 쌓는 증착 방식입니다. 원료를 함께 흘려 계속 쌓으므로 원료를 번갈아 넣는 ALD보다 빠르지만, 깊은 구조의 안쪽까지 고른 두께로 덮기는 어렵습니다.
- Synonyms
- 화학 기상 증착
- English
- chemical vapor deposition
- Broader term
- 증착thin film deposition
- Related terms
- ALDatomic layer deposition공정 가스process gas
- Added in version
- 0.1.0
- Permanent URI
https://ontocraft.com/terms/cvd
JSON-LD for this term- Citation
- OntoCraft Korean Industrial Term Registry, “CVD” (chemical vapor deposition), version 0.1.1, https://ontocraft.com/terms/cvd, CC BY 4.0.
CC BY 4.0. Source: OntoCraft Korean Industrial Term Registry · License text